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无掩模光刻机（也叫直写光刻机）是一种将图案直接写入光刻胶上的光刻设备，不需要使用掩模（即类似印章的遮罩板）来进行光刻。与传统的掩模光刻机相比，无掩模光刻机具有以下优点： 更快的制程速度：无掩模光刻机不需要进行掩模对准和对位工作，因此制程速度更快。 更灵活的生产能力：由于无掩模光刻机可以直接在光刻胶上绘制图案，因此可以生产出更加灵活、多样化的产品，而不必因为制造新的掩模而增加成本。 更低的成本：无掩模光刻机不需要使用掩模，因此在掩模设计、制造、校验和维护等方面都可以降低成本。 无掩模光刻机主要应用于MEMS、LED、纳米技术、生物芯片等领域的制造。